专利分析图「金刚石在电子行业中的应用技术」，分析了公开专利信息中的金刚石在电子行业中的应用技术的专利。
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技术开发系列

专利分析图活用「金刚石在电子行业中的应用技术」
　ISBN978-4-86483-104-8
通过专利信息(专利分析图)来观察    ＜掌握其他公司的技术开发实况，获得战胜其他公司的金钥匙＞

金刚石在电子行业中
        的应用技术

 〔各课题动向预测系列〕
技术开发实况分析调查报告书
Ａ４纸总291页  定价(含税)：书籍版73,500日元
CD-ROM版73,500日元（书籍PDF版+浏览软件+专利分析图＆分析表数据）
组合版（书籍版+CD-ROM版）103,500日元     发行时间 2012年5月20日 
１．调查目的
 对于「金刚石在电子行业中的应用技术｣相关的公开件数、发明人、以及专利分类等，通过时间推移、技术分布图等各种观点来进行分析，为在金刚石及类金刚石碳(DLC)的技术开发策略（①步入第一位的策略、②市场需要策略、③统率者策略等等）制定时起到非同凡响的作用,而刊载了各种各样的专利分析图。

  也就是说：读懂时代的趋势，或者是拿本公司的经营资源与其他公司作比较。本公司的商业机会、强弱之处或本公司可能遭受的威胁等等。明确以上事项，提供知识产权现状的具体数据，对今后的开发决策起到指南针的作用。

  如果涉及金刚石及类金刚石碳(DLC)的所有数据，则形成庞大的纸面。因此，仅对1993年～2011年间有关电子行业的公开专利进行了分析。

２．专利信息的收集方法
 本调查报告书，通过【专利 检索ASP服务SRPARTNER】（由日立系统股份有限公司制作），对「金刚石在电子行业中的应用技术」过去19年间（日本国内公开日：1993年1月～2011年12月）涉及的公开专利进行了检索、收集。另外，报告书的作成，使用了专利分析图制作支援软件 「专利清析导航EXZ」（由英帕特克股份有限公司制作）。专利信息公报的总件数2,143件。

３．报告书的构成
 本报告书由以下4部分构成。
        A．申请人分析
            A-1.全出願人対象分析
            A-2．通过专利分析图来探索有特性的申请人
            A-3．特性申请人分析：公开件数排名前6位申请人的详细分析
        B．申请人的综合分析
            B-1.公开件数排名前申请人技术开发生命周期图的比较
            B-2.公开件数排名前申请人在主要技术领域的时间推移动向
            B-3.申请人之间技术领域的比较
            B-4.公开件数排名前申请人的参加技术领域集中度的比较
            B-5.件数占有率排名前申请人的变化
            B-6.最近3年间公开件数较多的申请人
        C．技术领域（F-Term ）分析
            C-1.通过专利分析图来探索有特性的技术领域
            C-2.公开件数排名前6位技术领域的详细分析
        D. 技术领域的综合分析
            D-1.申请件数排名前Thema-Code生命周期图的比较
            D-2.主要Thema-Code的关联图（Thema-Code的同时利用比率）
            D-3.索尼、佳能、Panasonic公开件数骤减的分析

４．本报告书的特征
    ●　申请人分析、技术领域分析皆为首先俯瞰整体状况，然后详细分析富有特性的申请人及技术领域。
    ●　对富有特性申请人的「最近的主要公开公报」、公开件数「增长率较高的技术领域」、「最近参加的技术领域」，加以浏览。
    ●　为使读者能够理解，刊载了显示「公开公报号」、「申请日」、「发明名称」的列表。
    ●　关于F-Term，不仅仅是记载了分析图中F-Term的说明文，与其相关联观点的所有F-Term亦有记载，因此，该技术领域体系分析图中涉及的F-Term在全体的位置如何，或分析图之外的F-Term有哪些等等，对以上事项均有进行横向研究。
专利分析图实例以及本文中的实际页例

「金刚石在电子行业中的应用技术」专利分析图

Ⅰ．专利分析图篇

Ａ．申请人分析
A-1．所有申请人对象分析
A-1-1．通过所有申请人技术开发生命周期图来观察整体技术领域
A-1-2．通过所有申请人推移图来俯瞰总公开件数
(1)所有申请人公开件数的累计推移
A-2．通过专利分析图来探索有特性的申请人
A-2-1．各公开件数较多的申请人排名图
(1)各申请人公开件数推移图
(2)通过申请人＊F-Term Thema-Code矩阵图来观察参加领域
A-2-2．公开件数最近增长率较大的申请人
(1)各申请人的公开件数增长率（其１：公开件数排名前20位）
(2)各申请人的公开件数排名图
A-2-3．新参加申请人分析
(1)各申请人的开始・结束图
A-3．特性申请人分析：公开件数排名前6位申请人的详细分析
A-3-1．住友电气工业（第1位）
(1)通过生命周期图来观察技术开发经过
(2)通过各F-Term 排名图来观察技术领域
(3)通过各F-Term件数时间推移图来观察各技术领域（Thema-Code）的盛衰状况
(4)分析图A-14第１位Thema-Code４Ｇ０７７（结晶、为了结晶的后处理）的详细分析
(5)分析图A-14第２位Thema-Code４Ｋ０３０（ＣＶＤ）的详细分析
(6)分析图A-14第3位Thema-Code５Ｃ１３５（冷阴极）
(7)分析图A-14第4位Thema-Code５Ｆ０４５（气相成长（金属层除外）
(8)分析图A-14第5位Thema-Code４Ｇ１４６（碳素、碳素化合物）
(9)通过增长率排名图来了解公开件数处于正增长的技术领域
(10)通过开始・结束图来了解最近参加的技术领域
(11)通过独有数据图来了解住友电气工业参加的独有技术领域
A-3-2．神户制钢所（第2位），以下与住友电气工业（第1位）的分析项目相同
A-3-3．Panasoni（第3位）
A-3-4．索尼（第4位）
A-3-5．佳能（第5位）
A-3-6．产业技术综合研究所（第6位）

Ｂ. 申请人的综合分析

B-1．公开件数排名前申请人技术开发生命周期图的比较
B-2．公开件数排名前申请人在主要技术领域的时间推移动向
(1)４Ｇ０７７（结晶、为了结晶的后处理）
(2)４Ｋ０３０（ＣＶＤ）
(3)５Ｃ１３５（冷阴极）
(4)５Ｆ０４５（气相成长（金属层除外）
(5)４Ｇ１４６（碳素、碳素化合物）
(6)４Ｋ０２９（物理气相沉积）
(7)５Ｃ１２７（冷阴极的制造）
(8)４Ｆ１００（层压体(2)）
B-3．申请人之间技术领域的比较
B-3-1．通过申请人＊F-Term Thema-Code矩阵图来观察竞争状况
(1)对住友电气工业和产业技术综合研究所的技术领域4G077（结晶、为了结晶的后处理）的技术项目进行比较
B-4．公开件数排名前申请人的参加技术领域集中度的比较
B-5．件数占有率排名前申请人的变化
B-5-1．区间计算分析
B-5-2．区间累计计算分析
B-6．最近3年间公开件数较多的申请人

C. 技术领域（F-Term ）分析

C-1．通过专利分析图来探索有特性的技术领域
C-1-1．公开件数较多的技术领域
(1)各Thema-Code排名分析图
(2)各Thema-Code件数时间推移(累计年计算)图
(3)各Thema-Code件数时间推移(单年计算)图
C-1-2．最近公开件数增长率较大的技术领域
(1)各Thema-Code公开件数增长率（其１：公开件数排名前20位）
(2)各F-Term Thema-Code件数件数增长率排名图（其2：增长率降序）
C-1-3．开始时期较晚技术领域的分析
(1)各Thema-Code开始・结束图
C-2．公开件数排名前6位技术领域的详细分析
C-2-1．排名第１位Thema-Code４Ｇ０７７（结晶、为了结晶的后处理）
(1)通过生命周期图来观察生命周期的阶段
(2)通过各F-Term（深度8） 排名图来观察技术观点
(3)通过各F-Term（深度8）件数时间推移图(累计年计算)来观察技术观点
(4)通过各F-Term（深度8）件数时间推移图(单年计算)来观察技术观点
(5)通过各F-Term（深度10） 排名图来观察技术领域
(6)通过各F-Term（深度10）件数时间推移图来观察技术领域
(7)F-Term（深度10）的观点之间分析图
(8)通过F-Term（深度10）＊ 申请人矩阵图来观察各申请人较强较弱的技术领域
(9)通过各F-Term增长率排名图来了解最近增长件数较大的技术领域
(10)通过各F-Term（深度10）开始・结束图来了解最新出现的技术领域
C-2-2．排名第２位Thema-Code４Ｋ０３０（ＣＶＤ）
・・・以下，与第1位Thema-Code的详细分析项目相同
C-2-3．排名第3位Thema-Code５Ｃ１３５（冷阴极）
C-2-4．排名第4位Thema-Code５Ｆ０４５（气相成长（金属层除外）
C-2-5．排名第5位Thema-Code４Ｇ１４６（碳素、碳素化合物）
C-2-6．排名第6位Thema-Code４Ｋ０２９（物理气相沉积）
C-2-7．排名第3位Thema-Code５Ｃ１２７（冷阴极的制造）
C-2-8．与公开件数多无关，增长率高的Thema-Code４Ｆ１００（层压体(2)）

D. 技术领域的综合分析

D-1．申请件数排名前Thema-Code生命周期图的比较
D-2．主要Thema-Code的关联图（Thema-Code的同时利用比率）
(1)４Ｇ０７７（结晶、为了结晶的后处理）
(2)４Ｋ０３０（ＣＶＤ）
(3)５Ｃ１３５（冷阴极）
(4)５Ｆ０４５（气相成长（金属层除外）
(5)４Ｇ１４６（碳素、碳素化合物）
(6)４Ｋ０２９（物理气相沉积）
(7)５Ｃ１２７（冷阴极的制造）
(8)４Ｆ１００（层压体(2)）
D-3．索尼、佳能、Panasonic公开件数骤减的分析
D-3-1．概要
(1)索尼
(2)佳能
(3)Panasonic
D-3-2．详细分析
(1)分析对象期间的设定
(2)检索式
(3)为决定检索式中F-Term的参考图
(4)各申请人分析
ａ．索尼
a-1． 各母集团的公开件数动向比较
a-２．各组的公开件数动向比较（无维数正规化比较）
a-３．各组的发明人数动向比较
a-４．各组的发明人数动向比较（无维数正规化比较）
a-５．各组发明人的平均专利公开件数
a-６．公开件数排名前发明人的研究领域之间变异
a-７．申请件数增长率较高的技术领域（Thema-Code）
ｂ．Panasonic 、ｃ．佳能　・・・以下，与ａ.索尼的分析项目相同
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